Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра : Макушина Наталья
Информация: Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин. Для студентов специальности Проектирование и производство электронной аппаратуры» и Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс Микроэлектроника». Ил. 17. Табл. 8. Скачать fb2 Наталья Макушина - Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра. | |
 | |
| Вам может понравиться: | |